按照生產(chǎn)線速度給紙張、膠片、金屬化薄膜及箔紙上膠并保持高質(zhì)量涂層要求提高基質(zhì)表面附著力。電暈處理可以提高黏合點(diǎn)并增強(qiáng)表面附著力，同時(shí)不會(huì)犧牲基質(zhì)本身的特性。在上膠運(yùn)用中，電暈系統(tǒng)設(shè)計(jì)經(jīng)歷顯著的變化來(lái)適應(yīng)更輕卷材、更高生產(chǎn)線速度操作和更先進(jìn)的基材。發(fā)展范圍包括要求處理導(dǎo)電基板和電暈輥筒壓合，將電暈輥筒作為“拉輥”使用，修改電暈基站設(shè)計(jì)減少褶皺或“背面”電暈。已經(jīng)嘗試使用幾種技術(shù)來(lái)適應(yīng)導(dǎo)體基質(zhì)并減少褶皺和“背面”電暈機(jī)會(huì)。另一個(gè)方式:雙電極/覆涂輥筒科技，被目前認(rèn)為是克服此類問(wèn)題主要方式。我們?cè)��?jīng)討論了多種技術(shù)，目前現(xiàn)階段設(shè)備中使用的技術(shù)是控制參數(shù)及上膠運(yùn)用。

設(shè)備基礎(chǔ)：電暈處理站

在80年代，電暈處理站的研發(fā)使得電極和基站都發(fā)生革命性的改變。光輥設(shè)計(jì)革命性改變的基本是起初成功地將電暈輥上的絕緣包覆轉(zhuǎn)移至電暈電極（圖1）

這類改變包括第一次將陶瓷作為電介質(zhì)。但在那時(shí)候用陶瓷包覆在技術(shù)上并不可行。這就允許基站“開放”設(shè)計(jì)但同時(shí)為操作員提供電擊安全防護(hù)。同時(shí)也允許基站可以處理導(dǎo)體基質(zhì)和非導(dǎo)體基質(zhì)。在那個(gè)時(shí)代此類優(yōu)點(diǎn)被廣泛認(rèn)同。

光輥雙絕緣基站是近年來(lái)的一大發(fā)展，極大地?cái)U(kuò)展了光輥基站的能力。雙絕緣基站（圖2），不僅將特制陶瓷涂層包覆在輥上，同時(shí)還帶有陶瓷電極，匹配或提高處理效率和其他系統(tǒng)效益。

除一點(diǎn)外，光輥雙絕緣基站具有原光輥基站所有的優(yōu)點(diǎn)，這一點(diǎn)便是這種特制涂層很少需要更換或維護(hù)的原因。然而，與傳統(tǒng)包覆輥筒基站不同的是，在絕緣覆涂層變凹陷、有裂縫或是有針孔時(shí)仍能使用雙電極基站，這是因?yàn)殡姌O也是陶瓷包覆，基站可以繼續(xù)電暈處理。雙陶瓷操作在共享操作時(shí)可以釋放熱力，這是其另一個(gè)優(yōu)勢(shì)，因此，不管是電極還是輥包覆層都可以處于同水平熱力釋放并與包覆輥基站釋放熱力一致。這樣最終可以增加包覆輥的長(zhǎng)期操作性能。

光輥雙絕緣基站比光輥和包覆輥基站具有額外高度顯著的優(yōu)勢(shì)。雙絕緣基站大大地降低了超輕材質(zhì)的褶皺機(jī)率同時(shí)減少了不受歡迎的“背面”處理，即在本應(yīng)處理表面的反面電暈。

電暈處理系列第2部分討 of the 論了驅(qū)動(dòng)和壓合電暈輥筒

系列導(dǎo)航

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