第一部分:反轉輥涂布條件
滿足反轉輥涂條件
將各種薄膠片上膠至不同基質中的上膠設備被稱為“反轉輥涂布頭”。 此覆涂模式利用計量和上膠機制使其被運用在廣泛的上膠運用中。
作為真實的反轉輥涂模式
需具備兩個條件.
第一個條件是要求反轉計量壓輥(壓縫)。當涂料必須經過輥面朝著相反方向運轉的兩輥時。如圖1所示。
從圖1中可看到,計量膠片厚度主要用來測量兩輥間隙或間隙厚度
反轉計量還可以達到平滑效果。其相反的覆涂方式,即正轉輥計量,由于涂料在壓隙外單向短距離內流動產生較為粗糙的涂層面,這就是涂層分裂的典型現象。涂層分裂通常導致不均勻,視覺歪曲涂層。重“肋紋”通常是由于正轉輥計量導致的。作為一個常用術語,肋紋被用來描述涂層狀況不均勻,這包括不規則的較重涂層間隔。通過避免涂層分裂和肋紋現象,反轉輥涂的反轉計量可以提供一個更為平滑,均勻的計量涂層
第二個被列為真實反轉輥涂模式的要求是要求將涂料反轉運用至基材上,也就是說,計量薄層必須刮擦至上膠輥帶動的移動基材上,其與涂布運轉反向相反。反轉刮擦下避免出現正轉輥上膠模式下所出現的薄層分裂現象
我們現今所定義的真實反轉輥涂要求計量和上膠區域分開,這兩種功能同時運轉并產生相同的效果。此設計在圖2中顯示并被定義為“輥間覆涂”、“直接計量”及“背輥整勻”覆涂。
在此種覆涂模式下,基材厚度及均勻度被列為計量公式,而在真實反轉輥涂模式中卻沒有。與其他覆涂方式不同的是,在真實反轉輥涂模式里需要預先計量涂料均勻厚度,并忽視基材厚度變化。這就使得反轉輥涂布頭被稱為“輪廓”涂布頭式的局限性涂布頭,意味著上膠涂料遵從基質的輪廓而不是產生均勻厚度的覆涂片。
從圖1中可以看出,當計量輥離開計量區時在其表面帶走一層涂料,而返回時輥面仍然保持干凈且沒有任何涂料殘余。這是因為,當計量輥離開計量區域時,我們利用一個清潔刮刀清潔計量輥
自然,此設備必須定位好,以便可重新獲取并重復使用刮擦涂料,因為刮擦的涂料量很大。當然也必須定位好使其能做一整套的輥清潔工作。如果不這樣做,將導致大量不良品—覆涂薄層上存在條紋,當然也可能會導致其他問題出現。但也有些覆涂材質不易從計量輥表明清除。殘留了薄薄的一層,后續烘干并凸出與計量涂層相作用最終毀壞了涂層平滑性。
刮擦中使用的材質和力度必須有限使其不至于刮傷計量輥表面,同時也不會造成視覺瑕疵。因此在某些上膠中,刮擦是一大問題
有時以上問題都可以通過設置計量輥速度為零來解決,但也會產生新問題,作為最后的補救辦法,反轉計量輥方向,完整拆下刮刀。然而若拆下刮刀后就不能稱為真正的反轉刮刀,也同時會帶來如早前正轉輥涂一樣的問題,這就是限制了此種方式的功用。